Kundenspezifische Aluminiumspiegel-Inline-Magnetron-Sputterlinie Fabrik und Lieferant |Hondson

Aluminiumspiegel-Inline-Magnetron-Sputtering-Linie

Kurze Beschreibung:

Die Inline-Magnetron-Sputtering-Linie für Aluminiumspiegel ist für die Herstellung von Glasspiegeln mit hoher Leistung ausgelegt.Um größeres Glas zu beschichten und sich um zerbrechliche Glasscheiben zu kümmern, insbesondere bei großen Platten, bauen wir normalerweise eine horizontale Sputterlinie.Es ist eine kontinuierliche Magnetron-Beschichtungslinie mit der vorderen und hinteren Grobpumpkammer und nach der Übergangskammer, vor und nach der Feinpumpkammer, einer Pufferkammer und einem Farbbeschichtungsraum.

Targetdesign: zylindrische Magnetron-Sputterkathoden oder/und planare Kathoden.

Stromquelle: Stromversorgung mit Hochleistungs-DC- oder MF-Magnetron-Sputtern

Antriebssystem: Rollenantrieb, Frequenz regelbar, Zimmertüröffnungssystem induktiv.

Vakuumsystem: Diffusionspumpe (oder Turbomolekularpumpe) + Rootspumpe + mechanische Pumpe


Produktdetail

Produkt Tags

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Haupteigenschaften

  • Die Inline-Magnetron-Sputtering-Linie für Aluminiumspiegel wird normalerweise mit mehreren Vakuumkammern geliefert, um die Vakuumbeschichtung auf Glasplatten abzuschließen.
  • Haupteigenschaften:
  • 1.Max. Glasbeschichtungsgröße: 2440 x 3660 mm oder kundenspezifisch
  • 2. Multi-Vakuumkammern und Multi-Sputterkammer-Design sind verfügbar
  • 3. Die horizontale magnetische Steuerleitung hat eine Single-End- und Double-End-Struktur;Doppelte Glasreinigung, Beschichtung, Erkennung, Lackierung, Trocknung und Kühlung können auf einmal abgeschlossen werden
  • 4. Die Sputterbeschichtungslinie verwendet SPS für die gesamte Prozesssteuerung und ist mit einem Farbbildschirm ausgestattet, um die Beschichtungsprozessdaten anzuzeigen

Beschichtungsschicht: Titan, Chrom, Edelstahl, Aluminium, Silber, Kupfer usw.

  • Verbindung: TiN, TiO2 usw.
  • Schichtdicke: 5-100nm
  • Transmission: 8–40 % bei Wellenlängen von 380–780 nm
  • Abscheidetemperatur: Raumtemperatur
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  • Enddruck nach 8 h Abpumpen:
  • Eingangsschleusenkammer & Vakuumschleusenkammer: 5×10-1 Pa oder weniger
  • Pufferkammer 1: 3 × 10 –3 Pa oder darunter
  • Sputterkammer: 2 × 10 –3 Pa oder darunter
  • Pufferkammer 2: 3 × 10 –3 Pa oder darunter
  • Ausgangsschleusenkammer und Vakuumschleusenkammer: 5×10-1 Pa oder weniger

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