Inline-Magnetron-Sputtersystem

Kurze Beschreibung:

Das Inline-Magnetron-Sputtering-System ist eine Art Vakuum-Dünnschichtabscheidungsanlage, die für verschiedene Zwecke funktioniert.Die häufigsten Anwendungen unserer Sputteranlage sind:

Herstellung von Aluminiumspiegeln

ITO-Glasbeschichtung
Antireflektierendes Glas
Dekorative Beschichtungen für Edelstahl und Glas

Dieses Beschichtungssystem ist für hochwertige Vakuumbeschichtungsanwendungen geeignet.Es erzeugt eine stabile Arbeitsleistung, um die Qualität von Vakuumbeschichtungsfilmen zu verbessern.

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Produktdetail

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Inline-Magnetron-Sputter-Beschichtungsmaschine ist hauptsächlich DC (oder MF) Magnetron-Sputter-Beschichtung kann an eine Vielzahl von Targets angepasst werden, wie z. B.: Kupfer, Titan, Chrom, Edelstahl, Nickel und andere Metallmaterialien, die mit einem Sputter-Prozess beschichtet werden können kann Filmhaftung, Reproduzierbarkeit, Dichte, Gleichmäßigkeit und andere Eigenschaften verbessern.

a.Die grundlegenden Eigenschaften und Parameter
b.horizontale Linienstruktur gleichzeitig einseitig beschichtet realisierbar
c.Produktionseffizienz, die schnellsten Geschwindigkeiten von bis zu 1 min / Schlag
d.modularer Aufbau, einfache Wartung
e.Galvanisierung Prozessreife, hohe Ausbeute
f.DC-Magnetron-Sputterkathoden können je nach Kundenanforderungen variieren
g.Vakuumsystem besteht aus einer mechanischen Pumpe, Wälzkolbenpumpen, Diffusionspumpen (Molekularpumpe) Zusammensetzung
h.Die Größe des Leitungskörpers kann je nach Kundenanforderungen variieren

1) Die verwendeten Materialien des Vakuumkammerkörpers SUS304, Polieren einer Vakuumkammerwandbehandlung, die Verarbeitung der Außenwandsprühpolierperlen.
2) Mit einem unabhängigen Absperrschieber zwischen der Vakuumkammer - Klappenventil getrennt, kann das Prozessgas effektiv abgeschnitten und stabilisiert werden.Derzeit übernimmt unser Unternehmen das Klappenventildesign, das besser und haltbarer abdichtet als das derzeitige inländische Klappenventil.
3) Übertragung verwendet magnetische Führung, schützt die Stabilität des Laufwerks.Für jede Geschwindigkeit der gesamten Produktionslinie mit VVVF-Motorantrieb kann die Laufgeschwindigkeit angepasst werden.
4) Elektrisches Steuersystem: Touch Screen und automatische SPS-Steuerung, Mensch-Maschine-Dialog, um das Datenanzeigesystem, die Betriebsparameter und die Steuerungstechnologie zu erreichen
1) Vakuumenddruck: 6 × 1 0E-4 Pa
2) der durchschnittliche Produktionszyklus: entsprechend dem bestimmten Produkt
3) Die Substrathaltergröße: kann entsprechend den Anforderungen angepasst werden
4) Filmgleichförmigkeit: ± 3 % fortschrittliche mobile Feldtechnologie hat die Zielnutzung stark verbessert
Das segmentierte Heizerdesign ist der Prozessoptimierung förderlich.